Установка вакуумная специальная модели PVM-D
Установка образца 2008 года.
Установка предназначена для нанесения алмазоподобных износостойких покрытий вакуумно-плазменным способом.
В состав установки входит:
- откачной пост (с высоковакуумными средствами откачки, вакуумной системы и пневмогидроаппаратурой японской фирмы SMC;
- импульсный источник углеродной плазмы;
- электродуговой испаритель с инверторным источником питания;
- низкоэнергетический ионный источник «АИДА»;
- форвакуумный агрегат (2НВР-5ДМ/ДВН-50);
электрооборудование:
- контроллер управления откачным постом и технологическими источниками «Siemens 7-224» (сенсорная панель управления);
- микропроцессорное устройство напуска реактивных газов с автоматическим поддержанием рабочего давления (2-канала с обратной связью, ШИМ - управление);
- микропроцессорный регулятор температуры в вакуумной камере;
- автоматическое устройство для работы в режиме очистка и осаждение.
По требованию заказчика может оснащаться:
- программным обеспечением для автоматизации технологических процессов;
ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ
|
1 |
Предельное давление в чистой, пустой и обезгаженной камере, при охлаждении ее холодной водой, Па |
2.00х10-3 |
|
2 |
Время достижения давления 2.00х10-3 Па, мин |
20 |
|
3 |
Количество источников углеродной плазмы, шт. |
1 |
|
4 |
Количество дуговых испарителей, шт. |
1 |
|
5 |
Ток дуги электродугового испарителя, А |
10-250 |
|
6 |
Характеристики низковольтного источника: - плавная регулировка напряжения, В - ток, А |
0-300 0-20 |
|
7 |
Напряжение высоковольтного источника в рабочем режиме: - плавная регулировка напряжения, В |
0-1200 |
|
8 |
Энергия ионов в пучке ионного источника, эВ |
0-500 |
|
9 |
Мощность установки, кВт не более |
15 |
|
10 |
Площадь, занимаемая установкой, м2 |
10 |
|
11 |
Масса установки, кг |
1600 |