Установка вакуумная специальная модели PVM-2F
Установка предназначена для нанесения тонкопленочных износостойких покрытий вакуумно-плазменным способом из электропроводного тугоплавкого материала – титана (TI), а также его соединений с газами (TIN , TIC) (нитриды, карбонитриды).
Предусмотрена возможность нанесения покрытий из других электропроводящих материалов, в том числе молибдена, циркония иодитного (Zr) и их соединений (нитриды, карбонитриды).
В состав установки входит:
откачной пост (с высоковакуумными средствами откачки, вакуумной системы и пневмогидроаппаратурой (Festo);
форвакуумный агрегат;
электрооборудование:
- контроллер управления откачным постом фирмы «Siemens»;
- микропроцессорное устройство напуска реактивных газов с автоматическим поддержанием рабочего давления (2-канала с обратной связью, ШИМ - управление);
- микропроцессорный регулятор температуры в вакуумной камере;
- три источника питания дуговыми испарителями (база ВД-306).
По требованию заказчика может комплектоваться:
- инверторными источниками питания испарителей;
- ионным источником очистки и ассистирования (РИФ) с блоком питания;
- автоматическим устройством для работы в режиме очистки и осаждения.
ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ
1 |
Предельное давление в чистой, пустой и обезгаженной камере, при охлаждении ее холодной водой, Па (мм. Рт.ст.) |
1,33х10-3 (1х10-5) |
2 |
Время достижения давления 1,33х10-3 Па, мин |
20 |
3 |
Размеры рабочей камеры, мм диаметр высота |
700 776 |
4 |
Количество дуговых испарителей, шт. |
3 |
5 |
Скорость осаждения покрытия, мкм/час |
16-35 |
6 |
Микротвердость покрытия, кг/мм2 |
до 2400 |
7 |
Ток дуги, А |
65-150 |
8 |
Напряжение высоковольтного источника в рабочем режиме, В |
1200± 200 |
9 |
Диапазон дискретного регулирования опорного напряжения низковольтного источника, В |
15-225 |
10 |
Максимальный ток подложки при нормальном режиме, А |
15 |
11 |
Мощность установки, кВт не более |
30 |
12 |
Площадь, занимаемая установкой, м2 |
10 |
13 |
Масса установки, кг |
2200 |