231000, Республика Беларусь, г. Сморгонь, ул. Победы 12, Тел/факс: +375 1592-25555; +375 29 663 26 25

Установка вакуумная специальная модели PVM-2F


Установка вакуумная специальная PVM-2FУстановка предназначена для нанесения тонкопленочных  износостойких покрытий вакуумно-плазменным способом из электропроводного тугоплавкого материала – титана (TI), а также его соединений с газами (TIN , TIC) (нитриды, карбонитриды).

Предусмотрена возможность нанесения покрытий из других   электропроводящих материалов, в том числе молибдена, циркония иодитного (Zr) и их соединений (нитриды, карбонитриды).

 

В состав установки входит:

            откачной пост (с высоковакуумными средствами откачки, вакуумной системы и пневмогидроаппаратурой (Festo);

            форвакуумный агрегат;

            электрооборудование:

- контроллер управления откачным постом фирмы «Siemens»;

- микропроцессорное устройство напуска реактивных газов с автоматическим поддержанием рабочего давления (2-канала с обратной связью, ШИМ - управление);

- микропроцессорный регулятор температуры в вакуумной камере;

- три источника питания дуговыми испарителями (база ВД-306).

 

По требованию заказчика может  комплектоваться:

-  инверторными источниками питания испарителей;

-  ионным источником очистки и ассистирования  (РИФ) с блоком питания;

-  автоматическим устройством для работы  в режиме очистки и осаждения.

 

ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ

1

Предельное давление в чистой, пустой и обезгаженной камере, при охлаждении ее холодной водой, Па (мм. Рт.ст.)

1,33х10-3 (1х10-5)

2

  Время достижения давления 1,33х10-3   Па, мин

20

3

  Размеры рабочей камеры, мм              диаметр

                                            высота

700

776

4

Количество дуговых испарителей, шт.

3

5

Скорость осаждения покрытия, мкм/час

16-35

6

Микротвердость покрытия, кг/мм2

до 2400

7

Ток дуги, А

65-150

8

Напряжение высоковольтного источника в рабочем режиме, В

1200± 200

9

Диапазон дискретного регулирования опорного напряжения низковольтного источника, В

15-225

10

Максимальный ток подложки при нормальном режиме, А

15

11

Мощность установки, кВт не более

30

12

Площадь, занимаемая установкой, м2

10

13

Масса установки, кг

2200